Instant repair mask -Azonnali regeneráló maszk
Instant repair mask -Azonnali regeneráló maszk
22 490 Ft
Biotechnológiai aktív komplex, amely béta-glükánokat és oligoszacharidokat kombinál, salvianolsavval gazdagítva, kifejezetten az érzékeny bőr megnyugtatására fejlesztve.
Segít helyreállítani a bőr védőrétegét, enyhíti a feszülés és melegség érzetét.
Lágyan körülölelő, krémes textúra azonnali megkönnyebbülést nyújt.
Cikkszám: E1184
Használat
Használja az érzékenység fellépésekor azonnali nyugtatásra akár lokálisan a problémás területen akár egész arca. Felhelyezés után 10-15-re szükséges lemosni, majd szárazra törölni. Heti 2-3 alkalommal használható.
Összetevők / Ingredients
INGREDIENTS : AQUA (WATER), LAURYL LAURATE, C15-19 ALKANE, CETEARYL OLIVATE, SORBITAN STEARATE, SORBITAN OLIVATE, SACCHAROMYCES FERMENT FILTRATE, BUTYLENE GLYCOL, CAPRYLIC/CAPRIC TRIGLYCERIDE, NIACINAMIDE, PROPANEDIOL, CETYL PALMITATE, HYDROXYETHYL ACRYLATE/SODIUM ACRYLOYLDIMETHYL TAURATE COPOLYMER, EUPHORBIA CERIFERA (CANDELILLA) WAX, GLYCERYL BEHENATE, GLYCERYL STEARATE, SODIUM STEAROYL GLUTAMATE, SORBITAN PALMITATE, PHENETHYL ALCOHOL, HYDROGENATED CASTOR OIL, PANTHENOL, TOCOPHERYL ACETATE, OPHIOPOGON JAPONICUS ROOT EXTRACT, BISABOLOL, SODIUM POLYACRYLATE, GLYCERIN, ALBATRELLUS CONFLUENS (MUSHROOM) EXTRACT, MALTODEXTRIN, PENTYLENE GLYCOL, ETHYLHEXYLGLYCERIN, O-CYMEN-5-OL, SALVIA MILTIORRHIZA ROOT EXTRACT, SORBITAN ISOSTEARATE, BENZYL ALCOHOL, FARNESOL, BETA-GLUCAN, PHOSPHOLIPIDS, CENTELLA ASIATICA EXTRACT, CAPRYLYL GLYCOL, CITRIC ACID, SODIUM BENZOATE, SPHINGOLIPIDS, DEHYDROACETIC ACID, POTASSIUM SORBATE, TOCOPHEROL, SODIUM CITRATE, P-ANISIC ACID.
Értékelések
Még nincsenek értékelések.